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11電裝開發(fā)出了在硅底板上一體形成微小棱鏡和透鏡等光學元件陣列的技術，并在“MEMS2007”上作了發(fā)表（發(fā)表序號：M9）。該技術可以利用DRIE（Deep Reactive Ion Etching，深反應離子刻蝕）工藝，形成數(shù)百μm見方的微小..
新聞中心 - 盛誠機械網(wǎng)絡部整理 - 2013-6-8 19:08:05
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